CSEAC 2026 展后复盘：从 1300 家展商看兆声波"核心部件"的三个变化

1. 先看现场：规模和议题都在"前道化"

CSEAC 2026 于 2026 年 8 月 31 日至 9 月 2 日在无锡太湖国际博览中心举办，主题为"做强中国芯·拥抱芯世界"。官方口径显示，本届规划展览面积超过 7 万平方米、较上届增扩约 16.7%，集结 1300 余家国内外展商，同期论坛超过 20 场，覆盖晶圆制造设备、封测设备、核心部件与关键材料等领域[1][2]。哈科迪兆声波技术（深圳）有限公司以 A6-770 展位参展，现场接待的多是带着具体工序问题来的设备厂与晶圆厂工程师。

CSEAC 2026 展会信息——无锡太湖国际博览中心，2026 年 8 月 31 日至 9 月 2 日，哈科迪展位 A6-770

2. 变化一：清洗被单独立成议题，"核心部件"有了自己的论坛

本届展会并行开设 6 场专题研讨会，分别聚焦刻蚀、薄膜沉积、清洗、键合、量测以及 AI 与电子制造设备，清洗是其中独立的一场；同时另设"半导体设备平台化与核心部件协同论坛"[2]。清洗和核心部件同时被单独立项，说明它们已经是设备厂与晶圆厂必须共同面对的工程问题，而不是工艺线上的附属环节。

背后的原因是污染尺度的变化：制程向 2nm 及以下推进时，需要去除的污染颗粒尺寸已经被压到纳米级，清洗工序数量随之增加，任何一次清洗失效都会直接反映到良率上。与此同时，清洗工序本身处在按 ISO 14644-1 分级的受控洁净环境中——该标准以 0.1µm～5µm 阈值粒径的空气悬浮粒子浓度为分级依据[3]，环境与介质本身受控，才是清洗结果可复现的前提。

3. 变化二：从"能出功率"到"功率可追、状态可查"

先说机理。Applied Physics Letters 上的一项可视化实验研究给出了较明确的答案：真正把微粒从固体表面拉下来的是贴近基底做微幅振荡的微泡，它们对颗粒施加界面力与压力梯度，而其他压力效应与声流效应本身并不足以使颗粒脱离[5]。这对选型的直接含义是——与其一味加大输出功率，不如保证换能器始终工作在稳定的谐振点上。

于是发生器这一层的评价指标变了：能不能恒定功率输出、能不能实时跟踪谐振频率、能不能把运行状态交给产线和上位系统。

4. 变化三：从"洗得干净"到"洗得干净且不伤图形"

兆声能量一旦过度集中在局部，受损的往往不是颗粒，而是晶圆上的图形结构，所以这一层要同时看"去除能力"和"损伤风险"。设备手册给出的技术路线定性对比是：

需要说明的是，上表是设备手册的定性对比口径，用于说明技术路线差异，不构成绝对零损伤承诺。

工程上的对应做法有两类：一是用"扫频驱动"避免固定频率驻波节点，让驻波位置周期移动、提升作用均匀性；二是用"谐振频率智能寻优"提高换能器匹配精度。对 MEMS 等脆弱结构，实践中更常用多频组合覆盖不同尺度，而不是单频大功率硬冲。

其他频点数量与目标频率可按具体场景定制。

5. 落回选型：发生器侧的 5 个核对项

如果现场问题是负载或温度变化后清洗效果波动，先核对恒定功率输出与频率跟踪（PLL）能力，而不是先加功率；

如果问题是同一批片不同位置效果不一致，核对是否支持扫频驱动与谐振频率寻优；

如果对象是MEMS 等脆弱结构，不要只看单频功率上限，先确认多频组合能否按场景定制；

如果需要接入机台或产线系统，核对 RS485 MODBUS RTU、24VDC 外部远程启动与本地显示；

如果属于先进封装植球后清洗语境，兆声频率通常在 1MHz 及以上，并需同步核对超纯水指标[4]。

关于超纯水这一条：SEMI 的 F61、F63、F75 系列指南分别覆盖了半导体超纯水系统的设计运行、水质要求与质量监测，超纯水用于包括晶圆漂洗在内的几乎所有湿法工序，其纯度直接影响器件制造[4]。也就是说，兆声清洗的洁净度不只看声学参数，介质质量同样是前置条件。

常见问题

Q1：兆声波清洗和超声波清洗差在哪？

主要差在频率与作用尺度。兆声波工作在约 1MHz 量级，颗粒去除更多依赖纳米级空化泡与微流作用，作用相对柔顺，适合亚微米至纳米级颗粒；超声波频率通常在几十 kHz，空化强度更高，对大颗粒与过程污物效率高，但对精细图形和脆弱结构的损伤风险也更大。

Q2：选兆声波发生器，最该看哪几个参数？

先看频率与功率是否落在工艺窗口内，再看三个"看不见"的能力：恒定功率输出精度（负载变化时能不能稳住设定功率）、频率跟踪方式（是否为 PLL 动态闭环）、以及通信与远程控制接口（RS485、以太网、IO）。这三项决定设备在产线上是"能用"还是"稳定可用"。

Q3：为什么先进封装清洗常提到 1MHz 以上？

因为植球、键合后的表面同时存在亚微米颗粒和精细结构，高频段能在较低损伤风险下去除小尺寸颗粒；同时要配套看超纯水指标——先进封装植球后清洗语境中，超纯水电导率通常要求低于 0.1μS/cm。频率与水质这两项需要一起核对，单看一项都不完整。