HKD-MTank-1M1200W

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HKD-MTank-1M1200W

水槽（SC1)

恒功率稳定输出

频率实时跟踪（PLL)

工作频率自动校正

清洗质量在线监控

波形调制与自定义轨迹

扫频驱动功能

根据客户应用，具备非标定制能力

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产品资料-关键参数表

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关键参数
型号 HKD-MTank-1M1200W
频率 1MHz
最大功率 1200W
功率调整 10-1200W
供电电压 220VAC±10%
频率跟踪/自适应调整/频率校验/恒定功率/波形调制/在线监控支持
控制方式本地按钮操控、远程通信控制
通信方式 RS485、USB、Ethernet 通信控制、I/O口控制
外控启动接口 24VDC
显示方式触摸液晶显示
安装方式嵌入式安装
发生器工作环境 0～40℃、0～90%RH
发生器尺寸发生器：431439149.5mm；换能器：根据用户需求进行定制
换能器载体方式清洗槽底背面粘贴
换能器载体材料 316L不锈钢或石英
支持液体温度（普通版）＜80℃

我们的常见应用案例

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半导体晶圆清洗

半导体晶圆清洗

槽式兆声波设备可去除晶圆表面微尘与残留物，保证高洁净度与生产良率。

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光学镜片清洗

光学镜片清洗

通过超声空化作用实现无划痕清洗，广泛应用于镜片、透镜及光电元件。

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医疗器械清洗

医疗器械清洗

提供高效无残留清洗方案，满足医疗行业的高卫生与消毒标准。

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精密零部件清洗

精密零部件清洗

适用于轴承、齿轮等精密机械零件的深度清洗，防止残留杂质影响性能。

实验器皿清洗

实验器皿清洗

对实验玻璃器皿进行温和而彻底的清洗，保证分析实验的准确性。

核心产品

槽式兆声波喷嘴式喷头兆声波贴合式喷头兆声波

应用领域

半导体硅片光学器件医疗器械光伏行业精密零件其它行业

兆声波技术

安心售后

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